ALD ◈ ALD(Atomic Layer Deposition)? - Precursor(A)와 Reactant(B)를 표면화학적 반응에 의해 원자층을 하나씩 쌓아가는 미세 박막 증착 기술 - 2종 이상의 Precursor와 Reactant를 펄스 형태의 시분할(공간분할) 방식으로 공급하여 박막을 증착하는 방식 - CVD(Chemical Vapor Deposition)을 개선 발전 시킨 박막 증착 기술
