ALD
◈ ALD(Atomic Layer Deposition)?
- Precursor(A)와
Reactant(B)를 표면화학적 반응에 의해 원자층을 하나씩 쌓아가는 미세 박막 증착
기술
- 2종 이상의
Precursor와
Reactant를 펄스 형태의 시분할(공간분할)
방식으로 공급하여
박막을 증착하는 방식
- CVD(Chemical Vapor Deposition)을 개선 발전
시킨 박막 증착 기술
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