ALD Precursor

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ALD Precursor

ALD Precursor

◈ ALD/CVD Precursor


 - 반도체 미세 패턴 박막 증착 공정(ALD/CVD 공정)용 화학물질

 - 박막의 전기적 특성에 따라서 전도체, 반도체, 절연체 박막을 형성

 - 박막의 용도에 따라서 high-k, low-k, electrode, metal, barrier metal, ULTO, ACL 등으로 구분

 - 공정 後 소자에 잔존하는 박막과 공정 後 제거되는 희생박막으로 구분

 - 30nm 이하 설계룰에서 DPTULTO DRAM high-k 제품 수요 증가





 

TEL. 0507-1305-6750 FAX. 0504-225-6758
(18374)경기도 화성시 반정로 204번길 73 (반정동 137번지) ㈜아이켐스

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