반도체 Precursor 적용 사례

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반도체 Precursor 적용 사례

반도체 Precursor 적용 사례

◈ ALD/CVD Precursor


   - DRAM, Nand flash memory, Logic 반도체 소자의 미세 박막을 증착하는 전공정용 화학 물질 

   - ​잔존막 : high-k, SiO2/SiN, electrode, barrier metal, interconnection metal, contact metal 등

   - 희생막 : ULTO, SiON, ACL 






 

TEL. 0507-1305-6750 FAX. 0504-225-6758
(18374)경기도 화성시 반정로 204번길 73 (반정동 137번지) ㈜아이켐스

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